當(dāng)前位置：首頁(yè) > 技術(shù)文章 > 徑跡蝕刻膜過(guò)濾器的主要特性

徑跡蝕刻膜過(guò)濾器的主要特性

更新時(shí)間：2023-05-22 點(diǎn)擊次數(shù)：1644

徑跡蝕刻膜過(guò)濾器的原材料

我們應(yīng)用軌道蝕刻技術(shù)實(shí)現(xiàn)透明聚碳酸酯（聚碳酸酯）和聚酯（寵物）生膠片，以及棕黃色聚酰亞胺（PI）薄膜，厚度從 6 到 50 微米不等。

我們所有的原材料（薄膜）都由擠壓不使用溶劑，下表中標(biāo)有（*）的溶劑除外，這些溶劑也可作為流延膜.

我們只使用高質(zhì)量的材料，為所有軌道蝕刻膜過(guò)濾器提供其固有特性：低可萃取性、低蛋白質(zhì)結(jié)合、吸附和吸收可忽略不計(jì)、生物相容性、出色的耐化學(xué)性和熱穩(wěn)定性。

用過(guò)的聚合物薄膜為徑跡蝕刻膜過(guò)濾器提供了它們的固有特性：低可萃取性、低蛋白質(zhì)結(jié)合、可忽略不計(jì)的濾液吸附和吸收，以最大限度地提高關(guān)鍵溶液的回收率、生物相容性、出色的耐化學(xué)性和熱穩(wěn)定性。

在徑跡蝕刻過(guò)程中，孔隙外觀底部的物理機(jī)制確保了精確和均勻的孔徑，本質(zhì)上產(chǎn)生了窄孔徑分布并提供了銳利的截止過(guò)濾器。

這種出色的形狀和尺寸控制能夠在任何過(guò)濾過(guò)程中高效準(zhǔn)確地排除顆粒尺寸，這使得它們適用于苛刻的過(guò)濾操作，也適用于更具體的需求，例如用于合成一維納米或微米物體的模板.

軌道蝕刻技術(shù)適合獨(dú)立控制孔徑和孔密度：孔密度在工藝的第一步中定義，而孔徑由蝕刻條件定義。

電流光束條件可以微調(diào)，以獲得從每平方厘米1，000個(gè)孔到每平方厘米超過(guò)1E+09個(gè)孔的孔密度。

孔徑和孔密度的選擇，結(jié)合過(guò)濾器厚度的選擇，使軌道蝕刻膜過(guò)濾器的制造能夠以廣泛的水和氣流為特征。

如果普通的軌道蝕刻膜過(guò)濾器由多角度孔制成，則光束工藝的靈活性使我們能夠?qū)崿F(xiàn)替代的多孔結(jié)構(gòu)。

具有+45°/-45°孔的軌道蝕刻膜過(guò)濾器通常用作合成3D互連納米線網(wǎng)絡(luò)的模板。

由于徑跡蝕刻過(guò)程產(chǎn)生的孔徑和孔形的均勻性，用于過(guò)濾的徑跡蝕刻膜過(guò)濾器將所有大于孔徑的顆粒保留在其平坦光滑的表面上。因此，保留的顆粒很容易被回收或很容易被任何合適的檢測(cè)器檢測(cè)和分析。